第53章 铍,三组不同的比例
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苏哲看着惊呼的众人，脸上露出了笑容。
此时此刻，牛光辉和司文博两人也是异常的兴奋。
两人看着大屏幕上两组加工镜片的检测数据，知道这次是稳了。
“不错不错！这样的结果才是我愿意看到的，这下大家也不用猜了，都能安心了。”
牛光辉笑着说。
“的确！两组能有这样的检测数据，说明了DYN-离子束抛光技术的稳定性。”
司文博肯定的说，“老牛！要是你们搞的等离子体EUV光源突破了就好了，那我们造出来的EUV光刻机就有竞争力了。”
“我也想啊！我们研究团队……”牛光辉还没说完，站在台上的包正义拿着话筒又喊了起来。
“各位注意了，这两组的检测的结果还有提升空间，DYN-离子束抛光技术在理论上，镜面精度能够达到0.06纳米的面型精度峰谷值和10皮米的表面粗糙度。”
“有了DYN-离子束抛光技术，我们就能进军高端光学镜头市场了，最典型的就是EUV光学镜头，最为……”
苏哲听了一会儿，发现和范晓明说的一样，开始展望未来了。
牛光辉和司文博两人笑了笑。
“老牛！我们继续。”
司文博笑着说。
“好！”
牛光辉继续说等离子体EUV光源的问题。
苏哲一边听着，一边在脑中快速的计算着。
牛光辉相关的参数说的很详细，也点出了问题的所在，及锡滴在大功率波长10.6微米红外光的照射下会出现不稳，导致的结果是无法获得波长13.5纳米的紫外光。
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